爆轟法ナノダイヤモンド
一次粒子径約5 nmの爆轟法（デトネーション）ナノダイヤ。分散液・粉末を、表面電荷・分散媒・表面修飾から選べます。
製品概要
爆轟法で合成される一次粒子径約5 nmのナノダイヤモンドです。触媒担体・電気めっき・コーティング・潤滑・電解質添加・研磨・ナノコンポジットなど幅広い産業用途に使われます。完全脱凝集した5 nm分散液（正／負のゼータ電位）、10〜80 nmの凝集体分散液、粉末（未処理・カルボキシル／アルキル機能化）を用意し、表面電荷・分散媒（水／エチレングリコール／NMP）・表面修飾を選べます。
特長
完全脱凝集 5 nm
一次粒子まで解した5 nm分散液。正（+45 mV）／負（-50 mV）のゼータ電位を選択できます。
広い粒径系列
10〜80 nmの凝集体分散、30〜230 nmの粉末まで、用途に合わせて選べます。
表面機能化グレード
カルボキシル基（-COOH）・アルキル鎖（-C12／-C18）など、マトリクスへの分散性に合わせて選定。
分散媒を選択
水・エチレングリコール（EG）・NMPの分散液を用意。用途プロセスに合わせられます。
型番一覧
濃度は分散液いずれも10 mg/mL。価格・在庫・カスタム（濃度・分散媒・表面修飾）はお問い合わせください。
① 5 nm 完全脱凝集 分散液
| 種別（電荷／分散媒） | 粒径 | 分散媒 | 容量 | 型番 |
|---|---|---|---|---|
| 正電荷（+45 mV） | 5 nm | 脱イオン水 | 100／500／1000 mL | ND5nmPH2O###ml |
| 負電荷（-50 mV） | 5 nm | 脱イオン水 | 100／500／1000 mL | ND5nmNH2O###ml |
| EG分散 | 5 nm | エチレングリコール | 100 mL | ND5nmEG100ml |
| NMP分散 | 5 nm | NMP | 100 mL | ND5nmNMP100ml |
② 10〜80 nm 分散液（凝集体・水分散）
| 粒径 | ゼータ電位 | 容量 | 型番 |
|---|---|---|---|
| 10–15 nm | 負（-45 mV） | 100／500／1000 mL | ND10nmNH2O###ml |
| 15–20 nm | 負（-45 mV） | 500／1000 mL | ND15nmNH2O###ml |
| 20–30 nm | 負（-45 mV） | 500／1000 mL | ND20nmNH2O###ml |
| 30–40 nm | 負（-45 mV） | 500／1000 mL | ND30nmNH2O###ml |
| 50–60 nm | 負（-45 mV） | 500／1000 mL | ND50nmNH2O###ml |
| 80 nm | 正 | 100 mL | ND80nmPH2O100ml |
③ 粉末（未処理・機能化）
| 粒径 | 表面 | 量 | 型番 |
|---|---|---|---|
| 30 nm | -COOH | 3 g | NDCOOH30nm3g |
| 60 nm | -COOH | 5 g | NDCOOH60nm5g |
| 190 nm | -COOH | 10／50 g | NDStCOOH190nm10g／50g |
| 80 nm | -C12（アルキル） | 粉末 | ND80nmC12 |
| 80 nm | -C18（アルキル） | 粉末 | ND80nmC18 |
| 140 nm | 未処理（-） | 10 g | DND2-10g |
| 170 nm | 未処理（+） | 50 g | NDStandard50g |
| 230 nm | 未処理（+） | 50 g | NDLStandard50g |
※ 型番末尾の ### は容量（mL）です。掲載外の粒径・分散媒・表面修飾・容量はお問い合わせください。
主な用途
触媒担体電気めっきコーティング潤滑添加電解質添加研磨ナノコンポジット
Adámas Nanotechnologies 日本国内正規窓口：さくらフォトニクス株式会社（TEL 045-550-7538） ｜ 関連：ナノコンポジット＆ナノ流体